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FUJI II LIQUIDO 8ml GC ATTACCHI RAPIDI L'eccesso di cemento rimane nel

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Description

L'eccesso di cemento rimane nel restauro provvisorio per una facile pulizia del dente

inoltre permette di operare con 3 modalità di fotopolimerizzazione: potenza massima

può essere utilizzata con tecniche per colata

ideal per la pulizia del viso dopo il trattamento di profilassi

FUJI II LIQUIDO 8ml GC ATTACCHI RAPIDI L'eccesso di cemento rimane nelLiquido 8ml per FUJI II.

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